Séminaires et colloques
Contribution à l’étude de la croissance cristalline et des procédés d’élaboration de films de diamant par CVD assisté par plasma micro-onde
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Europe/Paris
Description
Au-delà de sa rareté et de son caractère précieux, le diamant présente une conjonction unique de propriétés extrêmes, qui le rend exceptionnel. Il s’agit du matériau possédant la plus grande dureté, le module d’élasticité le plus élevé, la plus grande rigidité diélectrique, la plus grande conductivité thermique et la plus grande résistivité électrique connue. Si l’on ajoute à cela, le fait que le diamant est chimiquement inerte, biocompatible, très résistant aux irradiations, transparent dans une large gamme spectrale, semi-conducteur à grand gap, et possédant une surface facilement fonctionnalisable, on comprend aisément que ses formidables atouts le désignent naturellement pour un grand nombre d’applications extrêmes dans le domaine de la mécanique, de l’optique, de la thermique, de l’électronique, des biocapteurs et de l’électrochimie.
Il est désormais établi que les propriétés du diamant CVD (notamment électronique) sont très supérieures à celles du diamant naturel qui est caractérisé par une densité d’impuretés et de défauts élevée.
Le diamant CVD est d’ores et déjà utilisé dans certaines applications industrielles et d’intensives recherches sont actuellement menées pour tenter d’utiliser ce matériau dans le domaine du semi-conducteur.
Au cours de cette présentation, les différentes formes du diamant CVD seront brièvement présentées ainsi que leurs applications.
Les mécanismes de croissance cristalline du diamant CVD seront abordés ainsi que les stratégies possibles permettant d’obtenir des cristaux de grandes dimensions présentant une faible densité de défauts cristallins.
Enfin, les procédés de croissance assistés par plasma seront décrits en mettant l’accent sur les aspects d’ingénierie micro-onde.
Il est désormais établi que les propriétés du diamant CVD (notamment électronique) sont très supérieures à celles du diamant naturel qui est caractérisé par une densité d’impuretés et de défauts élevée.
Le diamant CVD est d’ores et déjà utilisé dans certaines applications industrielles et d’intensives recherches sont actuellement menées pour tenter d’utiliser ce matériau dans le domaine du semi-conducteur.
Au cours de cette présentation, les différentes formes du diamant CVD seront brièvement présentées ainsi que leurs applications.
Les mécanismes de croissance cristalline du diamant CVD seront abordés ainsi que les stratégies possibles permettant d’obtenir des cristaux de grandes dimensions présentant une faible densité de défauts cristallins.
Enfin, les procédés de croissance assistés par plasma seront décrits en mettant l’accent sur les aspects d’ingénierie micro-onde.